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一种分级结构的氧化铜纳米片的合成方法

作者: 来源:  日期:2017/06/20 09:56:35 人气:

成果名称

一种分级结构的氧化铜纳米片的合成方法

所属领域

无机合成技术

成果简介:

发明专利,专利申请号:201410143837.1

本发明公开了一种分级结构的氧化铜纳米片的合成方法,所述的合成方法的具体步骤如下:(1)首先将二水合氯化铜,加入到四丁基氢氧化铵中,二水合氯化铜和四丁基氢氧化铵的摩尔比是1:1-15。搅拌均匀,然后在室温下,密闭放置20-30小时;(2)然后进行离心分离,液相回收,固相用蒸馏水洗涤三次,再用无水乙醇洗涤三次;(3)最后放在烘箱中,在45℃~55℃下烘干,即得分级结构的氧化铜纳米片。本发明的分级结构的氧化铜纳米片的合成方法具有工艺简单,反应条件温和,并且不使用模板剂和表面活性剂和能耗低的优点。

市场预测

分级结构的纳米氧化铜,可用于催化、传感和抑菌材料等领域,随着纳米技术发展和应用,将会有较大发展应用空间。

投资效益分析

当前市场需求较小,但今后随着纳米技术发展,预计纳米氧化铜具有很好投资效益。

合作方式:

技术转让、技术合作

发明人

殷竟洲

联系电话

0517-83526169

E-mail

jingzhouyin@hytc.edu.cn

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