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一种新型铝/铁掺杂的非晶碳膜/铝纳米薄膜记忆电阻存储器及其制备方法

作者: 来源:  日期:2017/06/20 10:00:40 人气:

成果名称

一种新型铝/铁掺杂的非晶碳膜/铝纳米薄膜记忆电阻存储器及其制备方法

所属领域

材料

成果简介:

中国发明专利,专利号:2016102303530

本发明涉及记忆存储技术,具体涉及一种铝/铁掺杂非晶碳膜/铝的记忆电阻存储器件及其制备方法。

市场预测

(1)本发明纳米薄膜记忆电阻存储器具有Al/a-C:Fe/Al结构。经测试,在室温下,该器件存在两种电阻态:高阻态和低阻态,高阻态电阻为862Ω,低阻态电阻为275Ω。在外加电压小于4V时,器件可以稳定地处于低阻或高阻态。当受到高于4V的电压时,则会由某一电阻态跳跃到另一电阻态上。即在2V工作电压基础上串联一个4V的脉冲电压触发,就可实现高低电阻态之间的切换,从而完成一次写入操作。

(2)本发明由于可以通过简单的脉冲电压进行写入,而通过检测电阻态即可读取,因此读写速度快,可重复性强。另外,本器件还具有结构简单,稳定、耐振动的优点。

投资效益分析

本发明器件所取用的原材料价格低廉,制备工艺简洁,并且环保无污染。另外,该器件很容易回收重复利用。只需要灼烧碳膜,将其变为二氧化碳气体排出,剩下的石英玻璃基片经过简单的处理,即可重新用于制备该器件。

合作方式:

技术转让

发明人

翟章印

联系电话

0517-83526169

E-mail

zhangyinz@sina.com

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